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　　高純氣體分析色譜適用范圍
　　高純氣體分析色譜適用于高純氣體和電子工業(yè)用氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)，zui小檢測(cè)濃度可達(dá)5ppb。高純氣體分析色譜配備高靈敏的氦離子化檢測(cè)器，采用*的中心切割技術(shù)，進(jìn)樣閥均帶有吹掃保護(hù)氣路；整機(jī)采用多柱箱設(shè)計(jì)，并配備進(jìn)樣壓力自動(dòng)校正系統(tǒng)，保證不同底氣的樣品的進(jìn)樣量一致。
　　高純氣體分析色譜適用于高純氫、氧、氬、氮、氦、氖、氪、氙、二氧化碳等氣體中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)，高純氣體分析色譜配備高靈敏度的氦離子化檢測(cè)器，采用中心切割與反吹技術(shù)，配置具有吹掃保護(hù)氣路的進(jìn)樣切換閥和進(jìn)口氦氣純化器，通過無死體積取樣或在線進(jìn)樣方式，一次性完成上述高純氣體中H2、O2（Ar）、N2、CH4、CO、CO2等常見雜質(zhì)或C1-C4等碳?xì)浠衔锏臋z測(cè)，檢測(cè)限達(dá)ppb級(jí)，重復(fù)性RSD≤1％。